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Intel 打破原有路线：18A 引入 High NA EUV，为 14A 代工关键战役铺路

更新日期：2026-07-17

来源：纯净之家

　　纯净之家 7 月 17 日最新消息，Intel 打破原有工艺路线，提前在 18A 工艺部分层级部署 High NA EUV 光刻机，而非等到 14A 节点才全面应用。

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　　Intel 确实是全球最早购买 High NA EUV 光刻机的，但 Intel 之前的路线图中，只有到 14A 工艺节点才会应用该技术，后者 2028 年才会试产，2029 年才会量产。

　　如今 High NA EUV 的量产提前了三年之多，确实让人想不到，虽然该工艺只是在 18A 工艺的部分层中量产，还不会取代当前的 low NA EUV 光刻机。

Intel 打破原有路线：18A 引入 High NA EUV，为 14A 代工关键战役铺路

　　那 Intel 率先量产 High NA EUV 技术有什么意义？还真不是纯粹作秀，Intel 公布的信息显示，High NA EUV 光刻层的成本比当前的 EUV 成本还低，后者需要 40 多个步骤才能完成的曝光过程只需要用 High NA EUV 光刻机 1 次就能完成。

　　再往别的方面来看，Intel 在 18A 工艺上就率先使用 High NA EUV 工艺生产，可以为下一代的 14A 工艺排雷，提前部署可以积累经验，到了 14A 工艺大规模量产 High NA EUV 工艺的时候就能快速产能爬坡。

　　14A 工艺对 Intel 来说可能比 18A 工艺还要重要，不光是技术迭代，14A 是 Intel 争取苹果、谷歌、微软、亚马逊、Meta 等公司代工订单的核心一战，这一代再拿不下大客户的订单，Intel 在代工市场真的没什么机会了，哪怕美国政府再强制输血也没用。

　　此外，在 High NA EUV 工艺上，Intel 也能完成对台积电的一次超越 —— 过去十多年中 Intel 为什么在先进工艺上落后，很多人不知道的是 Intel 之前对 EUV 量产的进度非常保守，一直希望用 DUV+SAQP 多重图案之类的技术继续迭代，结果被台积电用率先量产 EUV 工艺彻底赶超了。

　　如今风水轮流转，台积电对 High NA EUV 光刻机意兴阑珊，A12 工艺之前都不会用，也就是 2030 年之前都不会量产 High NA EUV 工艺，而 Intel 这波量产直接提前了 4 年，实现了一次对台积电的技术领先。

　　至于双方这次押注到底谁能笑到最后，现在说还为时过早，等着看吧。